半導體工業的製造方法是在矽半導體上製造電子元件(產品包括:動態記憶體、靜態記億體、微虛理器…等)。半導體業主要區分為材料(矽品棒)製造、積體電路晶圓製造及積體電路構裝等三大類，範圍甚廣。目前國內半導體業則包括了後二項，至於矽晶棒材料仍仰賴外國進口。 廢水特性 1、氫氟酸蝕刻廢液 2、研磨廢液 3、氨水蝕刻廢液 4、有機溶劑廢水 5、雙氧水廢水
